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氦质谱检漏仪光刻机检漏
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.
1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接
2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.
便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要技术参数：
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对氦气的最小检测漏率 |
真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s |
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检测模式 |
真空模式和吸枪模式 |
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氦质谱检漏仪无油前级泵抽速 |
1.7 m3/h |
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检测气体 |
4He , 3He, H2 |
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响应时间 |
<1s |
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对氦气的抽气速度 |
1.1 l/s |
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氦质谱检漏仪进气法兰 |
DN 25 ISO-KF |
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进气口最大压力 |
15 hPa |
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通讯接口 |
RS-232 |
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工作温度 |
10-40 °C |
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噪音水平 |
< 45 dB (A) |
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尺寸 |
350 X 245 X 141 mm |
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重量 |
21 kg (46 lb) |
鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解光刻机检漏, 请联络上海伯东邓女士，分机134